臭氧气体输送系统_青岛国林半导体技术有限公司

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臭氧气体输送系统

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臭氧气体输送系统
所属分类：产品展示

概要:
臭氧气体输送系统，可产生超纯、可靠的臭氧气体。在清洁的半导体环境中，借助臭氧气体反应实现原子层沉积 (ALD) 和蚀刻 (ALE) 等薄膜沉积工艺。高纯度、高浓度臭氧气体能够产生更高的薄膜密度，从而提高产品产量、产品性能和可靠性。

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产品描述

应用领域：
化学气相沉积（CVD）原子层沉积（ALD）氧化生长表面处理清洁、湿法应用及其他，系统采用高浓度、超纯净臭氧生成技术，配置精准的臭氧浓度检测、流量、压力控制和稳定的电源，以及安全防护等附加功能。是一种自由组合的、可高度集成的模块化臭氧系统，配备多组GTC系列发生器，形成多通道系统，满足不同臭氧气体应用需求。

♦臭氧浓度高，浓度高达400mg/L；
♦高臭氧产量可达220g/h;
♦高气体流量；
♦采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造，避免金属污染及析出；
♦水冷型，无氮气掺加技术；
♦通道数量1-4可选；