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• 发布时间：2022-12-14 08:36
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【概要描述】2022年10月27-29日，第十届中国半导体设备年会暨半导体设备与核心部件展示会在无锡太湖国际博览中心举办。

国林半导体受邀参加并在本次大会中展示了用于前道工艺中薄膜沉积，湿法清洗用的半导体级臭氧气体发生器、臭氧水发生器、臭氧水溶浓度检测仪等核心技术产品。

国林半导体作为国内唯一 一家真正掌握臭氧全部核心技术的专业化公司，在展会上受到了业界的广泛关注，众多企业纷纷表达了对国林的认可以及国产替代的合作意愿，希望能够与国林开展广泛深入的合作。

公司将始终致力于不断提升中国半导体臭氧装备技术水平，为半导体设备国产化发展做出贡献。不忘初心、砥砺前行，携手中国半导体企业共同前进！