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半导体级高浓度臭氧水发生器

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产品展示

概要:

半导体级高浓度臭氧水发生器专为半导体行业应用而开发设计,采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。

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产品描述

       半导体级高浓度臭氧水发生器专为半导体行业应用而开发设计,采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。

♦ 臭氧水输出稳定,臭氧水流量可控、可调,流量范围可实现0.5-150L/min不同规格的输出;

♦ 应用超纯高效混合与控制技术,臭氧水溶浓度实现5-150ppm,内置臭氧水浓度检测装置;

♦ 臭氧浓度输出响应速度快,输出臭氧水压力15-51psi;

♦ 采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造,避免、减少金属污染及析出;

♦ 设备具有互锁、联动保护功能,发生异常及时进行有效警示与保护;

♦ 设备可与外部进行RS485通讯,实现数据传送以及进行远程控制。

 

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