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半导体级高浓度臭氧水系统
- 所属分类: 产品展示
概要:
半导体级高浓度臭氧水系统专为半导体行业应用而开发设计,系统采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。
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概要:
半导体级高浓度臭氧水系统专为半导体行业应用而开发设计,系统采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。
产品描述:
♦ 臭氧水输出稳定,臭氧水流量可控、可调,流量范围可实现2-140L/min不同规格的输出;
♦ 应用超纯高效混合与控制技术,臭氧水溶浓度实现5-100ppm,内置臭氧水浓度检测装置;
♦ 臭氧浓度输出响应速度快,输出臭氧水压力高2.5bar(配置增压泵可满足3.5bar以上输出);
♦ 采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造,避免金属污染及析出;
♦ 设备具有互锁、联动保护功能,发生异常及时进行有效警示与保护;
♦ 设备可与外部进行RS485通讯,实现数据传送以及进行远程控制。
规格型号 |
CFBW-DTCT/SN系列 |
CFBW-DTCT/SNE系列 |
|
臭氧水流量L/min |
2-20 |
20-60 |
60-140 |
臭氧水浓度ppm |
20-130 |
30-70 |
30-60 |
氧气气量L/min |
2-5 |
5-20 |
10-40 |
气源/O2 |
6级氧气 |
6级氧气 |
6级氧气 |
掺杂气/CO2 |
5级/100ppm |
5级/100ppm |
5级/100ppm |
冷却水水温度℃ |
15-17 |
15-17 |
15-17 |
冷却水过滤um |
20-100 |
20-100 |
20-100 |
冷却水流量L/min |
4-8(取决于配置) |
10-20(取决于配置) |
20-40(取决于配置) |
电压V(可选) |
208VAC(±5%)3P/ 220VAC(±5%)1P |
208VAC(±5%)3P |
208VAC(±5%)3P |
输出臭氧水压力bar |
2.5(≥3.0可选配) |
2.5(≥3.0可选配) |
2.5(≥3.0可选配) |
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