臭氧气体输送系统

概要：

臭氧气体输送系统可产生超纯、可靠的臭氧气体。在清洁的半导体环境中，借助臭氧气体反应实现薄膜沉积 (CVD) 和蚀刻 (ALE) 等薄膜沉积工艺。

产品描述：

系统采用高浓度、超纯净臭氧生成技术，拥有精准的臭氧浓度检测、流量、压力控制和稳定的电源以及安全防护等功能。该系统是一种自由组合的、可高度集成的模块化臭氧系统，可以配备多组CFB-ODST/SN系列发生器，形成多通道系统，满足不同臭氧气体应用需求。

♦ 臭氧响应速度快，臭氧浓度高，浓度高达300mg/L；

♦ 单通道可满足高气体流量5-30slm；

♦ 采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造，避免金属污染及析出；

♦ 水冷型，可选型氮气掺加技术；

♦ 内部可集成流量、压力，臭氧检测等各类仪表；

♦ 输出通道数量1-4可选，具有独立输出独立控制功能。